清华大学在攻克这一光刻机核心难题方面取得突破
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本文由(ID:ICVIEWS)综合光源,是EUV光刻技术突破的关键。
本文由(ID:ICVIEWS)综合
图1. SSMB原理验证实验示意图(来源:《自然》)
图2. SSMB原理验证实验结果(来源:《自然》)
有望为EUV光刻光源提供新技术路线
合作攻关
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